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Autor:
Heuer, Thomas 
Originaltitel:
Lateral aufgelöste Messung des Oberflächenpotentials mit der Kelvin-Methode 
Übersetzter Titel:
Measurement of the surface potential with lateral resolution using the Kelvin-method 
Jahr:
2005 
Typ:
Dissertation 
Einrichtung:
Universität der Bundeswehr München, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Betreuer:
Ließ, Hans-Dieter, Prof. Dr.-Ing. 
Gutachter:
Ließ, Hans-Dieter, Prof. Dr.-Ing.; Baumgärtner, Hermann, Prof. Dr.-Ing. habil. 
Format:
PDF 
Sprache:
Deutsch 
Fachgebiet:
Elektrotechnik 
Schlagworte:
Grenzflächenpotenzial ; Kelvin-Sonde ; Lateralstruktur 
Stichworte:
Raster-Kelvin-Mikroskop, Kelvin-Sonde, Oberflächenpotential, Austrittsarbeit 
Kurzfassung:
Die Raster-Kelvin-Mikroskopie bietet im Vergleich zu anderen Meßverfahren für Kontaktpotentialdifferenz beziehungsweise Austrittsarbeit mehrere Vorteile: Es ermöglicht direkte, zerstörungsfreie Messungen der Kontaktpotentialdifferenz mit lateraler Auflösung. Am zweckmäßigsten können Raster-Kelvin-Mikroskope anhand des Verfahrens zur Regelung des mittleren Abstands zwischen Probe und Sonde klassifiziert werden. Dabei erscheinen zur Zeit das modulierte Raster-Kelvin-Mikroskop sowie die Regelung du...    »
 
Tag der mündlichen Prüfung:
04.08.2005 
Eingestellt am:
11.10.2005 
Ort:
Neubiberg 
Stadt (Autor):
Neuhaus/Rwg. 
Vorname (Autor):
Thomas 
Nachname (Autor):
Heuer