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Autoren:
Dollinger, Günther; Karsch, Stefan; Ambacher, O.; Angerer, H.; Bergmaier, Andreas; Schmelmer, Oliver; Stutzmann, Martin 
Dokumenttyp:
Konferenzbeitrag / Conference Paper 
Titel:
Elemental analysis on group-III nitrides using heavy ion ERD 
Herausgeber Sammlung:
Phillpot, S. R.; Bristowe, P. D.; Stroud, D. G.; Smith, J. R. 
Titel Konferenzpublikation:
Proceedings of the 1997 MRS Fall Meeting 
Untertitel Konferenzpublikation:
Boston, MA, USA; ; 1-4 December 1997 
Reihentitel:
Materials Research Society Symposium - Proceedings 
Bandnummer Reihe:
482 
Konferenztitel:
Materials Research Society Symposium (1997, Boston, MA) 
Tagungsort:
Boston, MA 
Jahr der Konferenz:
1997 
Datum Beginn der Konferenz:
01.12.1997 
Datum Ende der Konferenz:
04.12.1997 
Verlagsort:
Warrendale, PA, United States 
Verlag:
MRS 
Jahr:
1997 
Seiten von - bis:
745-756 
Sprache:
Englisch 
Stichwörter:
Carrier concentration ; Crystal impurities ; Hydrogen ; Ion beams ; Metallorganic chemical vapor deposition ; Molecular beam epitaxy ; Nitriding; Semiconducting aluminum compounds ; Semiconductor doping ; Semiconductor growth ; Substrates ; X ray diffraction analysis ; Elastic recoil detection (ERD) ; Energetic heavy ion beams, Nitrides 
Abstract:
Elastic recoil detection (ERD) using energetic heavy ion beams is used to measure depth profiles of light and medium heavy elements in thin films. The main advantages of ERD are the possibilities of obtaining reliable and quantitative results, a sensitivity in the ppm region or a depth resolution even better than 1 nm. ERD analysis is employed to obtain quantitative information about the aluminum content of molar fraction in MBE grown AlxGa1-xN layers on Al2O3 substrates. Nitridation of heated A...    »
 
ISSN:
0272-9172 
Article-ID:
Code 48274 
Fakultät:
Fakultät für Luft- und Raumfahrttechnik 
Institut:
LRT 2 - Institut für angewandte Physik und Messtechnik 
Professur:
Dollinger, Günther 
Open Access ja oder nein?:
Nein / No