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Autoren:
Badawi, Bassem 
Dokumenttyp:
Dissertation / Thesis 
Titel:
Advances in Grayscale Lithography Modeling 
Betreuer:
Kutter, Christoph, Prof. Dr. rer. nat. 
Gutachter:
Kutter, Christoph, Prof. Dr. rer. nat.; Kersch, Alfred, Prof. Dr. rer. nat. 
Tag der mündlichen Prüfung:
08.03.2023 
Publikationsdatum:
03.04.2023 
Jahr:
2023 
Seiten (Monografie):
xiv, 115, ix 
Sprache:
Englisch 
Schlagwörter:
Fotolithografie, Halbleiertechnologie ; Grau ; Modellierung ; Algorithmus ; Sperrschicht-FET ; Simulation 
Stichwörter:
grayscale; lithography; modeling; simulation; 
Abstract:
In this work, an alternative simulation approach for positive-tone photoresist modeling in grayscale lithography is developed, which is called the "three-state lithography model". The algorithm is adjacent to the state-of-the-art simulation programs, with a particular focus on a straightforward photomask desing procedure. The model performance is tested on spherical, pyramidal and chess field structures with a vertical resolution limit of 20-40 nm. Determining parameters and surface optimization...    »
 
DDC-Notation:
686.2325 
Fakultät:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Institut:
EIT 2 - Institut für Physik 
Professur:
Kutter, Christoph 
Open Access ja oder nein?:
Ja / Yes