- Dokumenttyp:
- Patent
- Patentnummer:
- WO9419832 A1
- Erfinder:
- Lang, Walter; Kozlowski, Frank; Richter, Axel; Sauter, Martin; Steiner, Peter
- Patentanmelder:
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung
- Titel:
- Plasma Generating Process and Arrangement
- Paralleltitel:
- Verfahren und Anordnung zur Plasma-Erzeugung
- Anmeldeland:
- Japan ; USA ; Europa
- Anmeldenummer:
- EP1994/000400
- Datum der Patentanmeldung:
- 11.02.1994
- Veröffentlichungsdatum:
- 01.09.1994
- Jahr:
- 1994
- Sprache:
- Deutsch
- IPC-Hauptklasse:
- H01L 33/34
- URL zum Volltext:
- https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=19940901&DB=&locale=en_EP&CC=WO&NR=9419832A1&KC=A1&ND=5#
- Fakultät:
- Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
- Institut:
- ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
- Professur:
- Sauter, Martin
- Sonstige Angaben:
- Plasma Generating Process and Arrangement in Porous Silicon. WO001994019832 ; EP000000685117
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