Universität der Bundeswehr München: AtheneForschung
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Dokumenttyp:
Patent 
Patentnummer:
WO9419832 A1 
Erfinder:
Lang, Walter; Kozlowski, Frank; Richter, Axel; Sauter, Martin; Steiner, Peter 
Patentanmelder:
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung 
Titel:
Plasma Generating Process and Arrangement 
Paralleltitel:
Verfahren und Anordnung zur Plasma-Erzeugung 
Anmeldeland:
Japan ; USA ; Europa 
Anmeldenummer:
EP1994/000400 
Datum der Patentanmeldung:
11.02.1994 
Veröffentlichungsdatum:
01.09.1994 
Jahr:
1994 
Sprache:
Deutsch 
IPC-Hauptklasse:
H01L 33/34 
Fakultät:
Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik 
Institut:
ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik 
Professur:
Sauter, Martin 
Sonstige Angaben:
Plasma Generating Process and Arrangement in Porous Silicon. WO001994019832 ; EP000000685117