- Document type:
- Patent
- Patent number:
- WO9419832 A1
- Inventor:
- Lang, Walter; Kozlowski, Frank; Richter, Axel; Sauter, Martin; Steiner, Peter
- Patent applicant:
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung
- Title:
- Plasma Generating Process and Arrangement
- Parallel title:
- Verfahren und Anordnung zur Plasma-Erzeugung
- Country of patent application:
- Japan ; USA ; Europa
- Application number:
- EP1994/000400
- Date of patent application:
- 11.02.1994
- Date of publication:
- 01.09.1994
- Year:
- 1994
- Language:
- Deutsch
- IPC main class:
- H01L 33/34
- Full text URL:
- https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=19940901&DB=&locale=en_EP&CC=WO&NR=9419832A1&KC=A1&ND=5#
- Department:
- Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
- Institute:
- ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
- Chair:
- Sauter, Martin
- Miscellaneous:
- Plasma Generating Process and Arrangement in Porous Silicon. WO001994019832 ; EP000000685117
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