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Authors:
Maguire, Pierce; Jadwiszczak, Jakub; O´Brien, Maria; Keane, Darragh; Duesberg, Georg S.; McEvoy, Niall; Zhang, Hongzhou 
Document type:
Zeitschriftenartikel / Journal Article 
Title:
Defect-moderated oxidative etching of MoS2 
Journal:
Journal of Applied Physics 
Volume:
126 
Issue:
16 
Year:
2019 
Language:
Englisch 
Article ID:
164301 
Department:
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik 
Institute:
EIT 2 - Institut für Physik 
Chair:
Düsberg, Georg 
Open Access yes or no?:
Nein / No