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- Authors:
- Sauter, Martin; Bertagnolli, Emmerich; Knapek, Erwin; Stemmer, Andreas; Fröschle, Barbara; Eisele, Ignaz; Klose, Helmut
- Document type:
- Zeitschriftenartikel / Journal Article
- Title:
- Application of electron beam lithography for downscaling of SOI-Bipolar and BiCMOS
- Collection title:
- Micro- and Nano-Engineering 95
- Journal:
- Microeletronic Engineering
- Volume:
- 30
- Issue:
- 1-4
- Year:
- 1996
- Pages from - to:
- 31-34
- Language:
- Englisch
- DOI:
- 10.1016/0167-9317(95)00188-3
- URL:
- https://doi.org/10.1016/0167-9317(95)00188-3
- Department:
- Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
- Institute:
- ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
- Chair:
- Sauter, Martin
- Open Access yes or no?:
- Nein / No
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