Logo
Benutzer: Gast  Login
Autoren:
Ludsteck, Alexandra; Schulze, Jorg; Eisele, Ignaz; Dietl, Waltraud; Chung, Hin Yiu; Nényei, Zsolt; Bergmaier, Andreas; Dollinger, Günther 
Dokumenttyp:
Konferenzbeitrag / Conference Paper 
Titel:
Nitrogen profile and electrical properties of reoxidized thermally grown silicon nitrides 
Herausgeber Sammlung:
Sah, R. E.; Deen, M. J.; Zhang, J.; Yota, J.; Kamakura, Y. 
Titel Konferenzpublikation:
Proceedings - Electrochemical Society 
Untertitel Konferenzpublikation:
207th ECS Meeting; Quebec; Canada; 16 May 2005 through 20 May 2005; Code 66429 
Reihentitel:
Proceedings - Electrochemical Society 
Bandnummer Reihe:
PV 2005-01, 2005 
Jahrgang:
207 
Heftnummer:
412 
Konferenztitel:
Electrochemical Society Meeting (207., 2005, Quebec) 
Tagungsort:
Quebec ; Canada 
Jahr der Konferenz:
2005 
Datum Beginn der Konferenz:
16.05.2005 
Datum Ende der Konferenz:
20.05.2005 
Verlag:
ECS - The Electrochemical Society 
Jahr:
2005 
Seiten von - bis:
232-241 
Sprache:
Englisch 
Stichwörter:
Current density ; Electric properties ; Nitrogen ; Oxidation, Elastic recoil detection measurements ; Tunneling current density ; Silicon nitride 
Abstract:
Starting from thermally grown Si3N4 we have examined the effects of dry and wet reoxidation in 100 
Fakultät:
Fakultät für Luft- und Raumfahrttechnik 
Institut:
LRT 2 - Institut für angewandte Physik und Messtechnik 
Professur:
Dollinger, Günther 
Open Access ja oder nein?:
Nein / No 
Sonstige Angaben:
ECS Meeting Abstracts ; Film Preparation, Characterization, and Applications II - Abstract 412