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Dokumenttyp:
Patent
Patentnummer:
WO9419832 A1
Erfinder:
Lang, Walter; Kozlowski, Frank; Richter, Axel; Sauter, Martin; Steiner, Peter
Patentanmelder:
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung
Titel:
Plasma Generating Process and Arrangement
Paralleltitel:
Verfahren und Anordnung zur Plasma-Erzeugung
Anmeldeland:
Japan ; USA ; Europa
Anmeldenummer:
EP1994/000400
Datum der Patentanmeldung:
11.02.1994
Veröffentlichungsdatum:
01.09.1994
Jahr:
1994
Sprache:
Deutsch
IPC-Hauptklasse:
H01L 33/34
URL zum Volltext:
https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=19940901&DB=&locale=en_EP&CC=WO&NR=9419832A1&KC=A1&ND=5#
Fakultät:
Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
Institut:
ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
Professur:
Sauter, Martin
Sonstige Angaben:
Plasma Generating Process and Arrangement in Porous Silicon. WO001994019832 ; EP000000685117
Vorkommen:
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