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Dokumenttyp:: Patent
Patentnummer:: WO9419832 A1
Erfinder:: Lang, Walter; Kozlowski, Frank; Richter, Axel; Sauter, Martin; Steiner, Peter
Patentanmelder:: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung
Titel:: Plasma Generating Process and Arrangement
Paralleltitel:: Verfahren und Anordnung zur Plasma-Erzeugung
Anmeldeland:: Japan ; USA ; Europa
Anmeldenummer:: EP1994/000400
Datum der Patentanmeldung:: 11.02.1994
Veröffentlichungsdatum:: 01.09.1994
Jahr:: 1994
Sprache:: Deutsch
IPC-Hauptklasse:: H01L 33/34
URL zum Volltext:: https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=19940901&DB=&locale=en_EP&CC=WO&NR=9419832A1&KC=A1&ND=5#
Fakultät:: Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
Institut:: ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
Professur:: Sauter, Martin
Sonstige Angaben:: Plasma Generating Process and Arrangement in Porous Silicon. WO001994019832 ; EP000000685117

Vorkommen: